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光焱量子科技激光掃描缺陷測(cè)繪系統(tǒng)激光掃描缺陷影像儀,，是激光束誘導(dǎo)電流測(cè)試（LBIC）的升級(jí)版，利用波長(zhǎng)能量大于半導(dǎo)體能隙大的激光束,，照射在半導(dǎo)體后產(chǎn)生的電子-空穴對(duì),，通過(guò)快速的掃描樣品表面，獲得影像分布,，可以得到內(nèi)部電流的變化來(lái)了解分析各種的缺陷分布,，幫助分析樣品制備質(zhì)量以及幫助工藝改進(jìn),。

光焱量子科技太陽(yáng)光模擬器SS-F5-3A為太陽(yáng)能模擬器，用以測(cè)量太陽(yáng)能電池效率,，其光斑大小為5 cm x 5 cm或7 cm x 7 cm,。采光纖導(dǎo)光功能，可配合實(shí)驗(yàn)室需求,，依據(jù)場(chǎng)所任意移動(dòng),，并自由調(diào)整出光方向，便于應(yīng)用各種領(lǐng)域,，也可與手套箱結(jié)合。

光焱量子科技圖像傳感器測(cè)試系統(tǒng)測(cè)試系統(tǒng)針對(duì)CCD,、CMOS,、image sensor、相機(jī)等圖像影像傳感器開發(fā),，適合多種規(guī)格的芯片和板卡性能測(cè)試,，包括量子效率、光譜響應(yīng),、系統(tǒng)增益,、飽和照射光子數(shù)、小可探測(cè)照射光子數(shù),、動(dòng)態(tài)范圍,、暗電流、線性度和線性誤差,、光電響應(yīng)不均勻度,、暗信號(hào)不均勻度、CRA特性測(cè)量,。

光焱科技光譜響應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)IPCE量子效率測(cè)試QE-R系統(tǒng)可以測(cè)試晶硅電池（Si）,，非晶硅電池（a-Si），多結(jié)電池（Tandem）,，染料敏化電池（DSSC）,，有機(jī)電池（OPV），銅銦鎵硒（CIGS）,，聚光電池（HCPV）等各種太陽(yáng)能電池,。

光焱科技QE-R量子效率測(cè)量系統(tǒng)采用了高效的橢圓反射器，比傳統(tǒng)的球形透鏡和反射器具有更高的集光效率,。且于60cm x 60cm x 60cm 的主體內(nèi)集成了所有光學(xué)和機(jī)械部件,，節(jié)省了大量實(shí)驗(yàn)室空間，但仍保持了各種類型的太陽(yáng)能電池測(cè)試夾具的靈活性,。并且也提供簡(jiǎn)單而完整的手套箱集成方案,。