磁場退火高溫爐 是由升溫高溫爐,，高溫爐加熱電源,，Labview控制軟件，電磁鐵,，高精度雙性恒溫電源,，分子泵組，水冷機(jī)組共同組成的一套反饋調(diào)節(jié)的加熱系統(tǒng),。

該高溫磁場加熱爐系統(tǒng)是由分子泵組中的機(jī)械泵（干泵）先對真空腔體（樣品腔）進(jìn)行粗抽,，達(dá)到可以開啟分子泵的限真空時，在開啟分子泵進(jìn)行高真空的抽取,，達(dá)到客戶所需的真空度,。打開軟件，通過在軟件中輸入需要的磁場值和溫度值,，通過閉循環(huán)反饋調(diào)節(jié),，使設(shè)備內(nèi)樣品的溫度自動控制并穩(wěn)定在某一個溫度值，軟件可以按照用戶給定的實驗條件完成實驗,。

磁場控制：用戶可以直接通過軟件設(shè)定所需要的磁場大小,，由高精度高斯計讀取實際磁場值，再將實際讀出的磁場值反饋給高精度恒流電源,，通過電源內(nèi)部軟件處理后,，直接由控制高精度恒流電源的輸出電流，從而實現(xiàn)用戶所需要的磁場,，并實時顯示在軟件上,；

溫度控制：通過在軟件上人機(jī)交互界面直接設(shè)置所需要的溫度值，計算機(jī)軟件處理后指令到達(dá)高溫爐加熱控制器,?？刂破魍ㄟ^溫度傳感器（熱電偶）讀出樣品區(qū)的實際溫度值，并通過其內(nèi)部設(shè)置的模糊控制PID調(diào)節(jié)輸出電流的大小,，總而使溫度值穩(wěn)定在某一精度范圍內(nèi),，從而實現(xiàn)用戶所需要的不同溫度。

真空環(huán)境：通過分子泵組獲得真空環(huán)境,，由高真空全量程真空計顯示并監(jiān)控,，并實時的將檢測結(jié)果傳遞給計算機(jī)。

退火過程：在強(qiáng)磁場（或無磁）環(huán)境下對樣品進(jìn)行加熱,，加熱到一定溫度（用戶需要自己設(shè)定）并保持在該溫度,，再持續(xù)加一個磁場（可隨時變化）,，達(dá)到用戶的目的后，關(guān)閉磁場,，關(guān)閉加熱環(huán)境,，冷卻到室溫。

樣品環(huán)境：高溫磁場加熱爐可以將被測樣品同時置于強(qiáng)磁場,、高真空,、高溫環(huán)境中。同時也可以單獨或任意組合這三種實驗環(huán)境,，滿足不同樣品在不同環(huán)境下的測試要求,。

適應(yīng)范圍：需在高溫、高真空,、強(qiáng)磁場環(huán)境中加熱或去磁的各種軟磁性材料,。

主要技術(shù)指標(biāo)：

※ 真空室及主要零部件材質(zhì)均為304無磁不銹鋼；

※ 采用的真空獲得系統(tǒng)為分子泵組,；真空測量為數(shù)顯全量程真空計,；

※ 真空度及漏率：① 真空室限真空度6′10^-5Pa(冷態(tài))；②漏率<10^-11Pa.L/s,，真空度隨著溫度變化,，會出現(xiàn)波動，屬于正常情況,；

※ 在室溫到900度,，升溫速率優(yōu)于100K/min，高溫加熱溫度1000℃,；控溫精度：±1℃,；

※ 加熱時，加熱絲被封裝在石英管內(nèi),，大程度的減少由于加熱絲的揮發(fā)造成樣品表面附著物的污染,；

※ 匹配磁鐵電源：雙性，穩(wěn)定度優(yōu)于50ppm/h,，平滑過零無斷點,；

※ 匹配電磁鐵：長時間運行穩(wěn)定度<±0.5Gs；

※ 冷卻方式：水冷,。